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制版企業(yè)應(yīng)該如何實(shí)現(xiàn)污水處理零排放呢？

凹印制版行業(yè)由于所包含的鍍種比較少（通常為瓦特鎳、酸銅、硬鉻、堿性退鉻或電解除油），針對(duì)廢水中所含的雜質(zhì)離子的種類，在選擇廢水處理工藝和設(shè)備上應(yīng)該有傾向性的選擇，既要達(dá)到理想的處理效果，又要減少設(shè)備投入和處理成本。

水處理零排放工藝流程包括除鉻系統(tǒng)、重金屬反應(yīng)系統(tǒng)、過(guò)濾系統(tǒng)（包括保安過(guò)濾器、超濾過(guò)濾器）、反滲透系統(tǒng)、電析透系統(tǒng)、純水生產(chǎn)系統(tǒng)和污泥處理系統(tǒng)等。

除鉻系統(tǒng)

含鉻污水經(jīng)污水泵及集水池抽到除鉻反應(yīng)池后，硫酸加藥泵和亞硫酸氫鈉加藥泵啟動(dòng)，攪拌機(jī)啟動(dòng)。當(dāng)在線儀表監(jiān)測(cè)到pH值≤2.5時(shí)停止加硫酸，ORP（溶液的氧化還原電位）≤250mV時(shí)停止加入亞硫酸氫鈉。此時(shí)六價(jià)鉻離子反應(yīng)完全，污水自流進(jìn)入中和混凝池，氫氧化鈉（濃度為5%）加藥泵和PAC泵啟動(dòng)，控制pH值在8.0～9.0，然后經(jīng)提升泵進(jìn)入沉淀池。

過(guò)濾系統(tǒng)

經(jīng)沉淀后的水自流到pH調(diào)節(jié)池，pH值范圍在5～6。然后經(jīng)重金屬泵進(jìn)入重金屬反應(yīng)塔，接通電解電源，控制流量在設(shè)計(jì)范圍內(nèi)，打開(kāi)氣閥向重金屬反應(yīng)塔通氣，氣壓為1kg左右。反應(yīng)后的水進(jìn)入混凝池，PAC和PAM（聚丙稀酰胺）加藥泵啟動(dòng)，同時(shí)要保證氣閥打開(kāi)，讓廢水充分?jǐn)嚢杈鶆?，然后進(jìn)入活性炭過(guò)濾器、砂過(guò)濾池進(jìn)行過(guò)濾。

從混凝池出來(lái)的水經(jīng)原水泵依次進(jìn)入砂濾過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、保安過(guò)濾器，運(yùn)行時(shí)壓力在0.2MPa左右。超濾濃水開(kāi)關(guān)根據(jù)水質(zhì)可以適當(dāng)調(diào)整。當(dāng)水質(zhì)較好時(shí)，可使開(kāi)關(guān)保持在微開(kāi)狀態(tài)。過(guò)濾后的水進(jìn)入超濾產(chǎn)水罐，濃水進(jìn)入排水管，流回pH調(diào)節(jié)槽。

由過(guò)濾系統(tǒng)中活性炭過(guò)濾器和沙濾過(guò)濾器過(guò)濾出來(lái)的固體物質(zhì)和膠體物質(zhì)通過(guò)管道進(jìn)入污泥處理系統(tǒng)。打開(kāi)沉淀池的閥門(mén)，池底污泥經(jīng)氣壓隔離泵進(jìn)入框式壓濾機(jī)，在氣壓下，氣液分離，水從水龍頭流出，污泥留在框內(nèi)。當(dāng)框內(nèi)污泥滿時(shí)，關(guān)閉沉淀池的閥門(mén)，再適當(dāng)延長(zhǎng)通氣時(shí)間，可減少污泥含水率。

反滲透系統(tǒng)

超濾后的水由高壓泵吸入到反滲透膜處。進(jìn)水壓力一般在1.3MPa左右，出水壓力一般在1.1～1.2MPa，通過(guò)濃水調(diào)節(jié)閥和濃水回流調(diào)節(jié)閥來(lái)調(diào)節(jié)運(yùn)行壓力和純水流量。純水流進(jìn)純水罐，濃縮水排入上級(jí)儲(chǔ)水罐。

電析透系統(tǒng) 

反滲透處理后，不合格的水進(jìn)入電析透系統(tǒng)，由水泵進(jìn)一步處理。水泵運(yùn)行時(shí)的壓力約0.1MPa，電壓約為100V，流量約為1m3/h，處理后指標(biāo)合格的水直接回用，不合格的水流入反滲透系統(tǒng)的儲(chǔ)水罐。

純水生產(chǎn)系統(tǒng)

經(jīng)過(guò)處理后，回用水箱的水質(zhì)能完全符合國(guó)家排放要求，即便是直接排放也不會(huì)造成環(huán)境污染?；赜盟渲兴碾妼?dǎo)率在80μs/cm以下，比自來(lái)水的電導(dǎo)率要小得多（自來(lái)水的電導(dǎo)率一般為200μs/cm），實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)回用（如清洗版輥）已經(jīng)沒(méi)有任何問(wèn)題。

如果回用水箱中的水再通過(guò)陽(yáng)離子交換樹(shù)脂、陰離子交換樹(shù)脂、混合離子交換樹(shù)脂的交換處理，其電導(dǎo)率能輕松達(dá)到2μs/cm，可以符合凹印制版對(duì)各鍍槽補(bǔ)水水質(zhì)的要求。

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